Bestimmung der Volumenlebensdauer von unpassivierten multikristallinen Siliziumwafern
Die Produktion von waferbasierten Siliziumsolarzellen beginnt in der Regel mit der Untersuchung der angelieferten Rohwafer. In aktuellen Inspektionssystemen werden wesentliche Merkmale wie Form, Kantenausbrüche, Dicke und spezifischer elektrischer Widerstand gemessen. Der nächste wichtige Schritt hin zu einer umfassenden Wafereingangskontrolle ist eine Bestimmung der elektronischen Qualität der Wafer, die eine Definition von Sortierkriterien für eine Klassifizierung von Wafern erlaubt.Das Vorsortieren von Wafern in Kombination mit angepassten Herstellungsverfahren führt zu einer schmaleren Wirkungsgradverteilung und einer höheren elektrischen Gesamtleistung. Die Bestimmung der Volumenlebensdauer τb von unpassivierten Rohwafern ohne Oberflächenpassivierung ist hierbei von großer Bedeutung. Allerdings sind Messungen an unpassivierten Rohwafern nur dann sinnvoll, wenn die dort gemessene effektive Ladungsträgerlebensdauer τeff eindeutig mit der Volumenlebensdauer in τb Bezug steht.
Wir führen quasistatische Photoleitfähigkeitsmessungen an multikristallinen Siliziumwafern vor und nach Abätzen des Sägeschadens so wie nach Oberflächenpassivierung mit Siliziumnitrid (SiN) durch. Die Oberflächenrekombinationsgeschwindigkeit nach der Passivierung mit SiN liegt unterhalb von 5 cm/s1. Für Volumenlebensdauern unterhalb von 200 µs ist damit sichergestellt, dass die effektive Ladungsträgerlebensdauer identisch ist mit der Volumenlebensdauer2,3. Alle Messungen werden bei einer Überschussladungsträgerkonzentration Δn von 4 × 1014 cm-3 durchgeführt. Abbildung 25 zeigt gemessene τb (SiN-passivierte Wafer) und τeff (Rohwafer) Wertepaarsätze a) vor und b) nach Sägeschadensätze als Symbole. Die Linien in Abbildung 25 zeigen das Ergebnis von numerischen Simulationsrechnungen unter Verwendung des Bauelementesimulationsprogramms PC1D4.




