Vacuum Sputtern

Verschiedene Vakuum AC/DC-Sputterkammern stehen zur Verfügung. Alle sputter-fähigen Materialien können gesputtert werden: Metalle: Kupfer, Nickel, Titan, Indium, Kupfer-Gallium, Tantal, Wolfram, Silber, Silicium. Von diesen Materialien können durch reaktives Sputtern Oxide, Nitride und Carbide abgeschieden werden.

Dielektrika: SiO₂, SiN_x, ZnO, ZnO:Al, SnO₂, Al₂O₃.