Si-Nitrid-Beschichtungen

Siliziumnitrid (SiN) dient als Antireflexschicht für Siliziumsolarzellen und kann außerdem die Oberfläche elektronisch passivieren; eine entscheidende Voraussetzung, um sehr hohe Solarzellenwirkungsgrade zu erreichen. Am ISFH stehen drei PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)-Anlagen für Auftragsbeschichtungen zur Verfügung:

• Microwave-remote PECVD (Oxford)
• Parallel-plate direct PECVD (Oxford)
• Inline microwave-remote PECVD (Roth&Rau)
  für großflächige Beschichtungen (bis zu 15,6×15,6 cm²)

Ansprechpartner
PD Dr. Jan Schmidt
Tel.: +49 (0) 5151-999 425
E-Mail: j.schmidt@isfh.de